El Secretario de Comercio de Estados Unidos, Howard Lutnick, expresó su preocupación a los ejecutivos del gigante litográfico holandés ASML en una serie de reuniones recientemente, diciendo que una máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV) podría fluir hacia China. De ser cierto, esto constituiría una violación importante del actual sistema de control de exportaciones. ASML lo negó firmemente, diciendo que la compañía nunca ha entregado ningún sistema EUV a China, y que el Departamento de Comercio de EE. UU. no ha mostrado públicamente la supuesta evidencia a los medios ni a ASML.
Según Bloomberg, funcionarios del gobierno de EE. UU. afirmaron tener pruebas de que ASML envió componentes y equipos de transporte relacionados con EUV a China. Sin embargo, no produjeron materiales específicos cuando se les preguntó varias veces, ni explicaron si la máquina completa realmente había aterrizado en China. ASML ha dejado en claro que todas las máquinas de litografía EUV producidas por la empresa a lo largo de su historia están siendo estrictamente rastreadas y están funcionando en manos de los clientes y se puede monitorear su estado, o han sido desmontadas y recicladas dentro de ASML.
Con sede en los Países Bajos, ASML puede no ser muy conocida por el público en general, pero en la construcción de infraestructura informática de IA global, es una de las empresas más críticas después de NVIDIA y varios proveedores de nube de gran escala en los Estados Unidos. Actualmente, ASML es la única empresa del mundo que puede producir máquinas de litografía EUV. Este equipo puede tallar los circuitos de chip más avanzados en obleas de silicio, lo que permite a TSMC producir en masa procesadores de vanguardia para empresas como Nvidia y Apple. Precisamente gracias a este monopolio tecnológico, ASML se ha convertido en una de las empresas cotizadas más valiosas de Europa. El valor de mercado ha rondado recientemente los 700 mil millones de dólares. Ha aumentado considerablemente el año pasado impulsado por la demanda de chips de IA.
Por esta razón, la cuestión de "si el EUV ingresa a China" es particularmente delicada. Si incluso un sistema EUV fluye hacia China, será considerado como una de las lagunas más graves en el sistema de control de exportación de potencia informática de inteligencia artificial y chips de alta gama construido por Estados Unidos en los últimos años, tocando directamente el resultado final del intento de Washington de restringir la mejora de la base militar e industrial de alta tecnología de Beijing. Ya en el primer mandato de Trump, Estados Unidos presionó al gobierno holandés para que negara a ASML la licencia para exportar EUV a China. Desde entonces, el mercado chino ha quedado bloqueado en este umbral tecnológico generacional.
El director general de ASML, Christophe Fouquet, respondió frontalmente a la "cuestión de China" en una entrevista hace seis semanas. Dijo que la empresa ha establecido un sistema de seguimiento completo para todos los equipos de la fábrica. Cada EUV está funcionando en la línea de producción de un cliente autorizado y en un estado monitorizable, o ha sido devuelto a ASML y desmontado. Además, ASML ha implementado internamente un sistema de "cortafuegos" para el personal expuesto a la tecnología EUV: los empleados que tienen acceso a la tecnología, documentos y materiales de capacitación de EUV están completamente aislados de los empleados que no pueden acceder a información relevante, mientras que el equipo chino se coloca deliberadamente al otro lado del "cortafuegos" para evitar que queden expuestos a detalles técnicos clave.
Furich también enfatizó que la razón por la que ASML pudo construir una máquina de litografía EUV se basa en la tecnología acumulada por la empresa durante décadas: alrededor del 80% de la tecnología de toda la máquina se deriva de experiencias pasadas. La dificultad verdaderamente nueva es cómo generar fuentes de luz EUV, y sólo este problema tardó unos veinte años en superarse. En su opinión, es difícil aplicar ingeniería inversa a un sistema EUV completo sin tener contacto personal con toda la máquina y basándose únicamente en observaciones externas o información dispersa. Esta es también una de las lógicas centrales de su argumento de que "China no puede crear EUV robándole a otros".
Además de las consideraciones técnicas y de seguridad, ASML también negó sus motivos para proporcionar en secreto EUV a China basándose en intereses comerciales. La empresa todavía puede vender máquinas de litografía ultravioleta profunda (DUV) de generación anterior a China. Estos equipos comenzaron a enviarse hace más de una década y todavía forman una parte importante del negocio de ASML en China. Según Furich, la empresa mantiene intencionalmente una brecha generacional: al vender herramientas que están una o dos generaciones atrás, los clientes chinos todavía tienen negocios que hacer, pero es difícil alcanzar los niveles más avanzados del mundo, manteniendo así los ingresos y reduciendo al mismo tiempo el riesgo de cultivar futuros competidores. ASML predice que alrededor del 20% de sus ingresos en 2026 provendrán de las ventas actualmente permitidas a China. Si se arriesga a violar la prohibición de exportación EUV por una sola transacción ilegal, no sólo pondrá en peligro estos ingresos, sino que también puede hacer tambalear su estatus como uno de los "monopolios más rentables de Europa".
Sin embargo, la declaración de ASML no puede probar directamente que las sospechas del gobierno estadounidense sean erróneas, porque este último aún no ha revelado las supuestas pruebas que obran en su poder. Antes de que las pruebas se hagan públicas, es difícil para el mundo exterior emitir un juicio final, lo que deja espacio para interpretaciones políticas y comerciales de todas las partes.
Vale la pena señalar que el Departamento de Comercio de Estados Unidos, bajo el liderazgo de Lutnick, acordó a finales del año pasado proporcionar hasta 150 millones de dólares en financiación gubernamental a una empresa nueva llamada xLight para apoyar su desarrollo de una nueva generación de tecnología de fuente de luz. En general, se cree que, en teoría, esta tecnología puede desafiar fundamentalmente el monopolio de ASML sobre las fuentes de luz EUV. Sin embargo, el director ejecutivo de xLight declaró anteriormente en una entrevista que la empresa prefiere posicionarse como un futuro socio de ASML en lugar de un competidor directo. Su objetivo es crear un módulo de fuente de luz que pueda integrarse en una máquina de litografía ASML, en lugar de una solución de máquina completa que reemplace completamente a ASML.
Cuando el periodista transmitió esta posición de "socio" a Furich, se mostró cortés pero no estuvo completamente de acuerdo. En su opinión, ASML no cree que necesite depender de la tecnología de xLight para mantenerse a la vanguardia de la industria. La empresa confía bastante en la continuidad y las ventajas de su propia ruta tecnológica. Esto también ha llevado a especulaciones externas: en el contexto de que el gobierno de los EE. UU. es a la vez un "regulador" y un beneficiario potencial de nuevas tecnologías a través de la inversión, si la revisión gubernamental de ASML se verá afectada por el diseño industrial y las consideraciones de interés.
Además de xLight, Peter Thiel también ha apostado por una startup llamada Substrate, con la esperanza de lograr un gran avance en la tecnología alternativa EUV. A diferencia del posicionamiento de xLight como "socio de ASML", Substrate propone claramente desarrollar una solución que pueda competir directamente con la tecnología ASML, y su ambición es convertirse en una de las posibles alternativas a EUV.
En un contexto de tensiones geopolíticas, también se está avanzando en el Congreso de los Estados Unidos un proyecto de ley bipartidista cuyo alcance va mucho más allá del EUV. El objetivo del proyecto de ley es restringir la exportación de herramientas de fabricación avanzadas a China a mayor escala, incluida una prohibición total efectiva de la exportación por parte de ASML de todos los modelos DUV a China, y estos equipos de menor generación actualmente contribuyen con aproximadamente una quinta parte de los ingresos esperados de ASML para 2026. El proyecto de ley fue aprobado por comités clave en abril y la administración Trump aún no ha hecho una declaración formal sobre su posición.
Si bien Estados Unidos continúa endureciendo los controles de exportación y apoya internamente a muchas empresas potenciales de "tecnología de litografía de próxima generación", ASML está en el centro de la intersección de múltiples fuerzas: por un lado, es un proveedor de infraestructura insustituible para las industrias globales de chips de alta gama e inteligencia artificial, y cualquier ajuste en su hoja de ruta de exportación afectará a toda la cadena de suministro; por otro lado, es objeto de escrutinio y presión por parte del gobierno estadounidense, y debe encontrar un delicado equilibrio entre los intereses comerciales, las relaciones de alianza y las restricciones a China. En cuanto a si la rumoreada "máquina de litografía EUV en China" realmente existe, sólo podemos esperar y ver si el gobierno de Estados Unidos está dispuesto a proporcionar pruebas más concretas y aceptar una inspección externa.