Según informes de los medios, el gigante holandés de fabricación de equipos semiconductores ASML confirmó queSe entregó el primer sistema de litografía ultravioleta extrema (EUV) de alta apertura numérica (NA) a Intel.La apertura numérica se utiliza para medir el rango angular de luz que puede captar un sistema óptico.Al aumentar la apertura numérica, se pueden lograr resoluciones más pequeñas y un mayor poder de resolución,Cumpliendo así con los requisitos del micromecanizado.
Según los informes,El coste de cada máquina nueva supera los 300 millones de dólares (aproximadamente 2.140 millones de yuanes).Puede satisfacer las necesidades de los fabricantes de chips de primera línea y poder fabricar chips mejores y más pequeños en los próximos diez años.
ASML publicó una fotografía de parte de la máquina saliendo de su sede en Wildhoven, Países Bajos, en una caja protectora con una cinta roja alrededor.
ASML también dijo: "Estamos entusiasmados y orgullosos de entregar nuestro primer sistema EUV de alta apertura numérica a Intel".
Una vez ensamblada, la máquina será más grande que un camión.Se enviará en 250 cajas individuales, incluidos 13 contenedores grandes, y se espera que se utilice para la fabricación de chips comerciales a partir de 2026 o 2027.
Además de Intel,TSMC, Samsung, SK Hynix y Micron también han encargado esta máquina.