Samsung cooperará con ASML para desarrollar tecnología de fabricación de semiconductores de próxima generación

Resumen:

Samsung Electronics dijo el martes que se había unido a una alianza liderada por el fabricante holandés de equipos de semiconductores ASML para desarrollar conjuntamente tecnología de fabricación de semiconductores de próxima generación. El gigante tecnológico surcoreano dijo que la colaboración tiene como objetivo avanzar en el desarrollo de la tecnología de fotomáscara de 12 pulgadas para reemplazar el formato de fotomáscara de 6 pulgadas que se ha utilizado ampliamente durante décadas.

Samsung dijo en un comunicado de prensa: "A partir de años de cooperación exitosa, las dos compañías trabajarán juntas para avanzar en la investigación, el desarrollo y la implementación de tecnologías avanzadas para cumplir con los crecientes requisitos de rendimiento y eficiencia de la fabricación avanzada de semiconductores".

Se espera que esta tecnología mejore la eficiencia de la producción de fábricas y reduzca los costos de fabricación de chips en medio del aumento de la demanda de chips de inteligencia artificial (IA).

Jeon Young-hyun, director ejecutivo de Samsung Electronics, dijo: "La era de la inteligencia artificial está remodelando la industria de los semiconductores, haciendo que la innovación tecnológica en toda la cadena de valor sea cada vez más importante. Al fortalecer aún más nuestra cooperación con ASML, estamos sentando las bases para la próxima generación de inteligencia artificial e innovación en semiconductores".

Samsung también planea aplicar la tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV) de alta apertura numérica (High NA) de ASML a la producción en masa de memoria dinámica de acceso aleatorio (DRAM) por primera vez para 2028.

Se espera que la tecnología EUV de alta apertura numérica promueva la expansión de los procesos DRAM al proporcionar una mayor resolución, lograr la simplificación del proceso y una mayor eficiencia de fabricación.

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